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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆开发厂处在豫东各国,大部分产量85英寸半导晶圆,日访问量废污水的总量上涨约800吨。由产量全过程中安全使用很多盐酸完成晶圆蚀刻,促使废污池里氟化物浓硫酸浓度超过200-300mg/L,远超各国的废气规则(10mg/L如下)。 废水处理组分及因素 焦化废水最主要的出自几个重要环节: 晶圆蚀刻道工序 :含高含量氟化物(HF)、氰化钠及一点巨资属 化学物质机械厂镜面抛光(CMP)焦化废水 :含nm级硅科粒、生产络合剂 设施设备冲洗废液 :含异丙醇、氟化物等有机化学物 处理方法流程步骤 选择"化学上的沉积+混凝土沉积+强度脱水"两级操作机系统: 4级处置 :加药系统氯化钙和氢防氧化钙,生成氟化钙水解,氟化物我们要除率达85% 五级处置 :移除PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(聚乙烯塑料酰胺),消除溶液态废弃物物 二级解决 :实现多有机溶剂滤过器和亲水性炭吸附性,满水后氟化物溶度不稳定性在8mg/L下面 重要机器设备也包括:pH自动式设定系统化、斜管凝固池、板框压滤设备(工业废水脱水过滤)。 决定效果好 項目工作六年监测站数据源表现: 氟化物均衡渗透压:7.2mg/L(达不到國家规范标准) COD祛除率:92% 污水水分含量率:≤65% 年环保再生资源共享回收氟化钙副服务约150吨,实行资源共享化利于

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